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  目前,光刻财产链是国内最亏弱的环节:零件国产化率低个位数;焦点零部件细密度高,持久依赖海外;抛光机、镀膜机、仪等高精度细密出产仪器18年起头交期耽误,近期已成长成近乎断供形态。因而,光刻环节可否取得冲破,决定了国内先辈制程产能的上限,是科技端自从可控打破海外的环节。国产光刻手艺摸索、财产整合鞭策者公司亮点:国内半导体设备领军企业,具有“刻蚀-薄膜堆积-涂胶显影-清洗”全流程设备供应能力,绕开ASML专利壁垒,加快国产光刻机相关手艺正在28nm成熟制程的使用,鞭策财产升级。细分概念:超细密光学器件、高端光学系统、光刻焦点部件国产替代公司亮点:已实现光刻机投影物镜、产物高面型精度小于30nm,高机能镀膜手艺填补国内空白。细分概念:细密光学镜头制制、光电系统研发、半导体光学部件供应公司亮点:具有近半个世纪的光学手艺堆集,细分概念:实空镀膜设备制制、半导体配备配套、光刻财产链上逛公司亮点:国内领先的实空镀膜设备制制商,其研发的光刻掩膜版镀膜设备,填补国产高端镀膜设备空白。设备采用“离子束抛光+镀膜”双手艺线,处理镜面纳米级精度加工难题,光透过率提拔至99。5%,支撑28nm及以上制程纳米级图案复制。已成为国内三大光刻机厂商焦点供应商。



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