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光刻机自从可控最正的4大焦点公司个个具备100
目前，光刻财产链是国内最亏弱的环节：零件国产化率低个位数；焦点零部件细密度高，持久依赖海外；抛光机、镀膜机、仪等高精度细密出产仪器18年起头交期耽误，近期已成长成近乎断供形态。
因而，光刻环节可否取得冲破，决定了国内先辈制程产能的上限，是科技端自从可控打破海外的环节。国产光刻手艺摸索、财产整合鞭策者公司亮点：国内半导体设备领军企业，具有“刻蚀-薄膜堆积-涂胶显影-清洗”全流程设备供应能力，绕开ASML专利壁垒，加快国产光刻机相关手艺正在28nm成熟制程的使用，鞭策财产升级。细分概念：超细密光学器件、高端光学系统、光刻焦点部件国产替代公司亮点：已实现光刻机投影物镜、产物高面型精度小于30nm，高机能镀膜手艺填补国内空白。细分概念：细密光学镜头制制、光电系统研发、半导体光学部件供应公司亮点：具有近半个世纪的光学手艺堆集，细分概念：实空镀膜设备制制、半导体配备配套、光刻财产链上逛公司亮点：国内领先的实空镀膜设备制制商，其研发的光刻掩膜版镀膜设备，填补国产高端镀膜设备空白。设备采用“离子束抛光+镀膜”双手艺线，处理镜面纳米级精度加工难题，光透过率提拔至99。5%，支撑28nm及以上制程纳米级图案复制。已成为国内三大光刻机厂商焦点供应商。
